国内初となるEUV技術を導入

Micron Technology（本社：アメリカ アイダホ州）は2023年5月18日、マイクロン広島工場に量産向けとしては国内初となるEUV（極端紫外線）技術を導入することを発表した。

マイクロン広島工場では、昨年より現行最先端の1βノードによるDRAMの量産を開始しているが、今回新たにEUV技術を導入したことで、次世代となる1γノードでのDRAMの量産も行われる予定。

同社では2025年以降を目処に台湾、および日本にてEUV技術による1γノードを立ち上げる計画を進めているが、広島工場では日本政府による支援を前提に、最大5,000億円を投資し、急速に台頭している生成系AI（人工知能）アプリケーションに代表される新たな技術革新の波をエンド・ツー・エンドでサポートするという。

また経済産業省によると、日本での最先端の半導体製造、サプライチェーンの強靭化、デジタル経済の強固な基盤構築を目的とした長期戦略のもと、大規模な投資支援を行っていくとのこと。

文： 編集部 池西 樹
Micron Technology： https://www.micron.com/