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プレスリリース
[発表] ELPIDA、50nmプロセス同等レベルのコスト競争力を達成した65nm XS版DDR3メモリ開発完了
 
2009年12月18日金曜更新
2009年12月17日プレスリリース
プレスリリース
 
ELPIDA エルピーダメモリ株式会社(東京都中央区)は、65nm XS版(エクストラシュリンク版)の1GビットDDR3 SDRAMを完了した事を2009年12月17日付けプレスリリースで発表した。


■50nmプロセス同等帯コストを達成した65nm XS版DDR3メモリ

「65nm XS版の開発完了」

http://www.elpida.com/ja/news/2009/12-17.html

 今回発表されたエルピーダのプレスリリースによると、DRAM不況を背景に、微細化推進(50nm、40nmなど先端プロセスの導入)と投資抑制型(既存のArFドライ露光装置を徹底的に活用するシュリンク版)を並行して研究開発を進めた成果として、65nm XS版(エクストラシュリンク版)の開発を完了させた。

 65nm XS版は、既存の65nm S版からさらにチップサイズが縮小され、300nmウェハ1枚あたりのチップ取得数はS版と比較して25%増加されている。この65mn XS版の縮小化により、製造工程の削減および既存のArFドライ露光装置を活用する事による装備コスト大幅抑制の結果、50nmプロセス製品同等レベルのコスト単価を実現するという。

 なお65nm XS版の1Gbit DDR3 SDRAMは、PCおよびサーバー市場向けに2010年第1四半期より量産が開始される。

TEXT:G&D matrix 松枝 清顕

エルピーダメモリ株式会社
http://www.elpida.com/ja/index.html

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http://www.gdm.or.jp/pressrelease/200910/08_04.html

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